位置選択的な置換基導入反応を用いたトリスクロメタレート型イリジウム(III)錯体の合成と発光特性
位置選択的な置換基導入反応を用いたトリスクロメタレート型イリジウム(III)錯体の合成と発光特性
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利用区域选择性取代基引入反应合成三羟金属盐型铱(III)配合物及其发光性能
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
久松洋介
中科院分区：
文献类型：
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作者：
久松洋介;諸見里真輔;大和田紘喜;大多和修平;城始勇;北村正典;青木伸;久松洋介
