Shozo INOUE, Hitoshi UCHIDA, Yoichi TOKUNAGA and Keiji KOTERAZAWA: ""Growth Process of rf reactive sputtered TiN Films"" Journal of The Japan Institute of Metals.
Shozo INOUE, Hitoshi UCHIDA, Yoichi TOKUNAGA and Keiji KOTERAZAWA: ""Growth Process of rf reactive sputtered TiN Films"" Journal of The Japan Institute of Metals.
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Shozo INOUE、Hitoshi UCHIDA、Yoichi TOKUNAGA 和 Keiji KOTERAZAWA：“射频反应溅射 TiN 薄膜的生长过程”，日本金属学会杂志。
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