Anisotropic Etching of SiC in the Mixed Gas of Chlorine and Oxygen
Anisotropic Etching of SiC in the Mixed Gas of Chlorine and Oxygen
复制标题
氯氧混合气体中SiC的各向异性刻蚀
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Tomoaki Hatayama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
何 継方;他3名;Tomoaki Hatayama
