有機フィルム基板上へのSiNxおよびa-Si:Hの極低温形成
有機フィルム基板上へのSiNxおよびa-Si:Hの極低温形成
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在有机薄膜基底上低温形成 SiNx 和 a-Si:H
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
佐藤 哲也
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Sato;M.Mitsui;J.Yamanaka;K.Nakagawa;Y.Aoki;S.Sato;C.Miyata;小林 憲明;佐藤 哲也
