Alleviation of Fermi level pinning at metal/Ge interface using lattice-matching group-IV ternary alloy interlayer
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使用晶格匹配 IV 族三元合金中间层减轻金属/Ge 界面处的费米能级钉扎
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and S. Zaima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Suzuki;O. Nakatsuka;S. Toda;M. Sakashita;and S. Zaima
