100 oC deposited transparent silicon nitride film for O-band photonic applications
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用于 O 波段光子应用的 100 oC 沉积透明氮化硅薄膜
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Yamada
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Kou;N. Yamamoto;G. Fujii;T. Aihara;T. Tsuchizawa;A. Ishizawa;K. Hitachi;H. Gotoh;M. Ukibe;K. Yamada
