Fabrication of smooth surface on 4H-SiC substrate by ultraviolet assisted local polishing in hydrogen peroxide solution
Fabrication of smooth surface on 4H-SiC substrate by ultraviolet assisted local polishing in hydrogen peroxide solution
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过氧化氢溶液中紫外辅助局部抛光在 4H-SiC 衬底上制备光滑表面
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kazuya Kurihara and Mutsumi Touge
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Akihisa Kubota;Kazuya Kurihara and Mutsumi Touge
