Proceedings of the 10th ACM SIGPLAN International Symposium on Haskell, Oxford, United Kingdom, September 7-8, 2017
Proceedings of the 10th ACM SIGPLAN International Symposium on Haskell, Oxford, United Kingdom, September 7-8, 2017
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第十届 ACM SIGPLAN Haskell 国际研讨会论文集，英国牛津，2017 年 9 月 7-8 日
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Hwang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ki;Young A. Kim;Jongjin Kim;H. J. Oh;Jeong Hwan Park;I. Choi;Jin Hyun Park;Sohee Oh;A. Chu;Jong Yoon Lee;K. Hwang
