マイクロ波光導電減衰法によるp型4H-SiCエピタキシャル膜の評価

マイクロ波光導電減衰法によるp型4H-SiCエピタキシャル膜の評価
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微波光电导衰减法评价p型4H-SiC外延薄膜

DOI:
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发表时间:
2008
期刊:
信学技報 108-34
影响因子:
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通讯作者:
大島武
大島武
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
松下由憲;加藤正史;市村正也;畑山智亮;大島武

文献摘要

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