木下 治久: "A New Supermagnetron Plasma Etcher Remarkably Suited for High Performance Etching" Journal of Vacuum Science and Technology B (March/April). 9. (1991)
木下 治久: "A New Supermagnetron Plasma Etcher Remarkably Suited for High Performance Etching" Journal of Vacuum Science and Technology B (March/April). 9. (1991)
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Haruhisa Kinoshita：“一种非常适合高性能蚀刻的新型超磁控等离子体蚀刻机”，《真空科学与技术杂志 B》（3 月/4 月）。（1991 年）。
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