Numerical Simulation on Fundamental Properties in Low-Pressure Radio- Frequency CH_4 Plasmas for Diamond-Like Carbon Films
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复制标题
低压射频CH_4等离子体中类金刚石碳薄膜基本性能的数值模拟
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A. Oda and H. Kousaka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
百々直輝;山村直紀;石田宗秋;A. Oda and H. Kousaka
