Nucleation and growth of ZnO films on Si substrates by LP-MOCVD
Nucleation and growth of ZnO films on Si substrates by LP-MOCVD
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LP-MOCVD 在 Si 衬底上成核和生长 ZnO 薄膜
DOI：
10.1016/j.spmi.2014.03.030
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发表时间：
2014-07
影响因子：
3.1
通讯作者：
Zhang, Baolin
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Shi, Zhifeng;Wu, Bin;Zhang, Yuantao;Zhang, Baolin
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影响因子：
1.8
作者：
Cheng, Jiping;Zhang, Yunjin;Guo, Ruyan
通讯作者：
Guo, Ruyan
影响因子：
2.1
作者：
P. Zu;Zikang Tang;George C. K. Wong;M. Kawasaki;A. Ohtomo;H. Koinuma;Y. Segawa
通讯作者：
P. Zu;Zikang Tang;George C. K. Wong;M. Kawasaki;A. Ohtomo;H. Koinuma;Y. Segawa
影响因子：
1.8
作者：
T. Smith;W. Mecouch;P. Miraglia;A. Roskowski;P. Hartlieb;R. Davis
通讯作者：
T. Smith;W. Mecouch;P. Miraglia;A. Roskowski;P. Hartlieb;R. Davis
影响因子：
2.1
作者：
AMANO, H;AKASAKI, I;SAWAKI, N
通讯作者：
SAWAKI, N
影响因子：
4
作者：
Koida, T;Chichibu, SF;Kawasaki, M
通讯作者：
Kawasaki, M