Effect of Dopant Compensation on the Behavior of Dissolved Iron and Iron-Boron Related Complexes in Silicon
Effect of Dopant Compensation on the Behavior of Dissolved Iron and Iron-Boron Related Complexes in Silicon
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掺杂补偿对硅中溶解铁和铁硼相关配合物行为的影响
DOI：
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发表时间：
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影响因子：
3.2
通讯作者：
Deren Yang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Peng Chen;Yong Liu;Jan Vanhellemont;Deren Yang
