Akira Kawai, Daisuke Inoue: "Effect of Thermal Stress on Peel Property of Line Resist Pattern Analyzed by Atomic Force Microscope(AFM)"J.Adhes.Soc.Technol.. 39. 107-110 (2003)
Akira Kawai, Daisuke Inoue: "Effect of Thermal Stress on Peel Property of Line Resist Pattern Analyzed by Atomic Force Microscope(AFM)"J.Adhes.Soc.Technol.. 39. 107-110 (2003)
复制标题
Akira Kawai、Daisuke Inoue：“通过原子力显微镜 (AFM) 分析热应力对线抗蚀图案剥离特性的影响”J.Adhes.Soc.Technol.. 39. 107-110 (2003)
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
