T.Watahiki: "New Approach to Low Temperature Si Epitaxy by Using Hot Wire Cell Method"J.Cryst.Growth. 209. 335-338 (2000)
T.Watahiki: "New Approach to Low Temperature Si Epitaxy by Using Hot Wire Cell Method"J.Cryst.Growth. 209. 335-338 (2000)
复制标题
T.Watahiki：“使用热线电池方法进行低温硅外延的新方法”J.Cryst.Growth。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
