Roughness Reduction in Polycrystalline Silicon Thin Films Formed by Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization with Cap SiO2 Thin Films
Roughness Reduction in Polycrystalline Silicon Thin Films Formed by Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization with Cap SiO2 Thin Films
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通过连续波激光横向结晶与帽状 SiO2 薄膜形成的多晶硅薄膜的粗糙度降低
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takashi Ito
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shuntaro Fujii;Shin-Ichiro Kuroki;Masayuki Numata;Koji Kotani;Takashi Ito
