Dielectric effect of a thin SiO 2 interlayer at the interface between Silicon and high- k Oxides
Dielectric effect of a thin SiO 2 interlayer at the interface between Silicon and high- k Oxides
复制标题
硅与高 k 氧化物界面处薄 SiO 2 中间层的介电效应
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Alfredo Pasquarello
中科院分区：
文献类型：
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作者：
F. Giustino;P. Umari;Alfredo Pasquarello
