Y.K.Lee,N.Fujimura,T.Ito and N.Itoh: "Epitaxial Growth and Structural Characterization of Erbium Silicide,ErSi_<2-x>,on(100)Si by Solid Phase Reaction" Journal of Applied Physics 投稿中.
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Y.K.Lee、N.Fujimura、T.Ito 和 N.Itoh：“通过固相反应在 (100)Si 上硅化铒的外延生长和结构表征，ErSi_<2-x>”，提交给《应用物理学杂志》。
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