M.Yoshiiwa,H.Kageyama,F.Wakaya,M.Takai,K.Gamo,Y.Shirota: "1,3,5-Tri[4-(tert-Butoxycarbonylmethoxy)phenyl]benzene as a Novel Electron-beam Positive Resist for Nanometer Lithography" J.Photopolym.Sci.Technol.9. 57-58 (1996)
M.Yoshiiwa,H.Kageyama,F.Wakaya,M.Takai,K.Gamo,Y.Shirota: "1,3,5-Tri[4-(tert-Butoxycarbonylmethoxy)phenyl]benzene as a Novel Electron-beam Positive Resist for Nanometer Lithography" J.Photopolym.Sci.Technol.9. 57-58 (1996)
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M.Yoshiiwa,H.Kageyama,F.Wakaya,M.Takai,K.Gamo,Y.Shirota：“1,3,5-三[4-(叔丁氧基羰基甲氧基)苯基]苯作为新型电子束正电子束
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