Multi Patterning Techniques for Manufacturability Enhancement in Optical Lithography

Multi Patterning Techniques for Manufacturability Enhancement in Optical Lithography
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用于增强光学光刻可制造性的多重图案化技术

DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
Proc. the 2014 International Conference on Integrated Circuits, Design, and Verification (ICDV 2014)
影响因子：
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通讯作者：
Satoshi Tanaka
Satoshi Tanaka
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
Atsushi Takahashi;Ahmed Awad;Yukihide Kohira;Tomomi Matsui;Chikaaki Kodama;Shigeki Nojima;Satoshi Tanaka

文献摘要

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