Implantation studies of keV positive muons in thin metallic layers
Implantation studies of keV positive muons in thin metallic layers
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DOI：
10.1016/s0168-583x(01)01166-1
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发表时间：
2002-05-01
影响因子：
1.3
通讯作者：
Pleines, M
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Morenzoni, E;Glücker, H;Pleines, M
本文报道了低能极化正μ子（μ（+））注入薄（
The implantation of low energy polarized positive muons (mu(+)) with energies between 0.5 and 30 keV in thin (