K.Murata, Y.Mizutani, E.Iwasaka, S.Takashima, M.Hori, T.Goto, S.Samukawa T.Tsukada: "Growth of preferentially oriented microcrystalline silicon film using pulse-modulated ultrahigh-frequency plasma"Jpn. J. Appl. Phys.. 40・1A/B. L4-L6 (2001)
K.Murata, Y.Mizutani, E.Iwasaka, S.Takashima, M.Hori, T.Goto, S.Samukawa T.Tsukada: "Growth of preferentially oriented microcrystalline silicon film using pulse-modulated ultrahigh-frequency plasma"Jpn. J. Appl. Phys.. 40・1A/B. L4-L6 (2001)
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K.Murata、Y.Mizutani、E.Iwasaka、S.Takashima、M.Hori、T.Goto、S.Samukawa T.Tsukada：“使用脉冲调制超高频等离子体生长优先取向的微晶硅薄膜”Jpn。应用物理杂志 40・1A/B。
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