Fine patterning of diamond films by laser-assisted chemical etching in oxygen
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DOI：
10.1016/0925-9635(94)00247-9
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发表时间：
1995-05
影响因子：
4.1
通讯作者：
V. Ralchenko;K. Korotushenko;A. Smolin;E. N. Loubnin
中科院分区：
文献类型：
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作者：
V. Ralchenko;K. Korotushenko;A. Smolin;E. N. Loubnin
