FC式ミストCVDの原料供給濃度変化による反応メカニズム解析
FC式ミストCVDの原料供給濃度変化による反応メカニズム解析
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FC型雾气CVD中原料供给浓度变化引起的反应机理分析
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
川原村 敏幸
中科院分区：
文献类型：
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作者：
西 美咲;劉 麗;佐藤 翔太;長谷川 諒;安岡 龍哉;上田 真理子;尾﨑 珠子;RUTTHONGJAN Phimolphan;鄧 太 江;川原村 敏幸
