Internal Repair for Plasma Damaged Low-k Films by Methylating Chemical Vapor
Internal Repair for Plasma Damaged Low-k Films by Methylating Chemical Vapor
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通过甲基化化学蒸气对等离子体损伤的低 k 薄膜进行内部修复
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and K.Kobayashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S.Nagano;K.Sakoda;S.Hasaka;and K.Kobayashi
