A.Hatta他: "Pulse modulated electron cyclotron resonance plasma for chemical vapor deposition of diamond films" Appl.Phys.Lett.66(印刷中). (1995)
A.Hatta他: "Pulse modulated electron cyclotron resonance plasma for chemical vapor deposition of diamond films" Appl.Phys.Lett.66(印刷中). (1995)
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A.Hatta 等人：“用于金刚石薄膜化学气相沉积的脉冲调制电子回旋共振等离子体”Appl.Phys.Lett.66（出版中）。
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