A Study on the Structural Hole of Patent Applicant Network in R&D Management
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DOI：
10.5954/icarob.2016.os9-1
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发表时间：
2016-01
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
I. Nakaoka;Yousin Park;Yunju Chen
中科院分区：
文献类型：
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作者：
I. Nakaoka;Yousin Park;Yunju Chen
