Research on YSZ thin films prepared by plasma-CVD process
Research on YSZ thin films prepared by plasma-CVD process
复制标题
等离子体CVD法制备YSZ薄膜的研究
DOI：
10.1016/0040-6090(94)90755-2
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发表时间：
1994
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
G. Meng
中科院分区：
文献类型：
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作者：
C. Cao;Jing Wang;Weichao Yu;D. Peng;G. Meng
