K.Nishizaki, H.Nohira, K.Takahashi, N.Kamakura, Y.Takata, S.Shin, K.Kobayashi, N.Tamura, K.Hikazutani, T.Hattori: "Depth Profiling of oxynitride film formed on Si(100) by photon energy dependent photoelectron spectroscopy"Applied Surface Science. 216. 287
K.Nishizaki, H.Nohira, K.Takahashi, N.Kamakura, Y.Takata, S.Shin, K.Kobayashi, N.Tamura, K.Hikazutani, T.Hattori: "Depth Profiling of oxynitride film formed on Si(100) by photon energy dependent photoelectron spectroscopy"Applied Surface Science. 216. 287
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K.Nishizaki、H.Nohira、K.Takahashi、N.Kamakura、Y.Takata、S.Shin、K.Kobayashi、N.Tamura、K.Hikazutani、T.Hattori：“Si 上形成的氮氧化物膜的深度分析（
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