p,n-両ドープ可能なポリシロロジチオフェンの電解重合法の開発
p,n-両ドープ可能なポリシロロジチオフェンの電解重合法の開発
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p型和n型掺杂聚硅并二噻吩电解聚合方法的开发
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
米田 真由，金子 湧貴，山口 孝浩，本田 光典，中野 正浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
望月ちひろ;竹歳絢子;石田玉青;春田正毅;村山 徹;米田 真由，金子 湧貴，山口 孝浩，本田 光典，中野 正浩
