嵩高いケイ素置換基を保護基として用いたオリゴ糖合成
嵩高いケイ素置換基を保護基として用いたオリゴ糖合成
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使用大硅取代基作为保护基团的寡糖合成
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
松本 拓磨・伊藤 諒・神瀬 龍平・小山 哲夫・松岡 浩司・幡野 健
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Kuronuma;Y. Araki;S. SAKAMOTO;T. Wada;松本 拓磨・伊藤 諒・神瀬 龍平・小山 哲夫・松岡 浩司・幡野 健
