Fabrication of Josephson junctions by single line etching of Nb thin films utilizing nitrogen-gas-field ion-source focused ion beam
Fabrication of Josephson junctions by single line etching of Nb thin films utilizing nitrogen-gas-field ion-source focused ion beam
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利用氮气场离子源聚焦离子束单线蚀刻铌薄膜制造约瑟夫森结
DOI：
10.35848/1347-4065/ac2ab4
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发表时间：
2022
影响因子：
1.5
通讯作者：
Uno Munenori
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Sudo Shinya;Akabori Masashi;Uno Munenori
