Masaharu SHIRATANI: "REACTION CONTROL IN SiH_4 PLASMAS BY MODULATING RF VOLTAGE" Proceedings of the 7th symposium on Plasma Processing. 285-288 (1990)

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Masaharu SHIRATANI:“通过调制射频电压在 SiH_4 等离子体中进行反应控制”第七届等离子体处理研讨会论文集。

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