Characterizations of etch pits formed on single crystal diamond surface using oxygen/hydrogen plasma surface treatment
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DOI：
10.1016/j.diamond.2015.08.012
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发表时间：
2016-03
影响因子：
4.1
通讯作者：
N. Tsubouchi;Y. Mokuno;S. Shikata
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N. Tsubouchi;Y. Mokuno;S. Shikata
