M.B.Takeyama et al.: "Application of fine-grained ZrN barrier at Cu/Si contact interface"8th. International Conference on the Formation of Semiconductor Interfaces. ICFSI-8,ThP-20. 234 (2001)
M.B.Takeyama et al.: "Application of fine-grained ZrN barrier at Cu/Si contact interface"8th. International Conference on the Formation of Semiconductor Interfaces. ICFSI-8,ThP-20. 234 (2001)
复制标题
M.B.Takeyama 等人：“细粒 ZrN 阻挡层在 Cu/Si 接触界面的应用”8。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
