Oxidation behavior of Cr-Al-N-O thin films prepared by pulsed laser deposition
Oxidation behavior of Cr-Al-N-O thin films prepared by pulsed laser deposition
复制标题
脉冲激光沉积Cr-Al-N-O薄膜的氧化行为
DOI：
10.1016/s0040-6090(02)00024-x
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Yatsui
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Hirai;H. Saito;Tsuneo Suzuki;H. Suematsu;Weihua Jiang;K. Yatsui
