波長走査と位相シフト法を用いた半導体マスクガラスの光学的厚さ計測
波長走査と位相シフト法を用いた半導体マスクガラスの光学的厚さ計測
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采用波长扫描和相移法的半导体掩模玻璃光学厚度测量
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
光石衛
中科院分区：
文献类型：
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作者：
金亮鎮;日比野謙一;尾藤洋一;大澤尊光;杉田直彦;光石衛
