Hiromitsu Kato, Yoshimichi Ohki, et al.: "Characterization of hafnium and zirconium silicate films fabricated by plasma-enhanced chemical vapor deposition"International Workshop on Gate Insulator 2001. 16-169 (2001)
Hiromitsu Kato, Yoshimichi Ohki, et al.: "Characterization of hafnium and zirconium silicate films fabricated by plasma-enhanced chemical vapor deposition"International Workshop on Gate Insulator 2001. 16-169 (2001)
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Hiromitsu Kato、Yoshimichi Ohki 等人：“通过等离子体增强化学气相沉积制造的硅酸铪和硅酸锆薄膜的特性”栅极绝缘体国际研讨会 2001. 16-169 (2001)
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