大気圧プラズマを用いたSi 薄膜形成
大気圧プラズマを用いたSi 薄膜形成
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利用大气压等离子体形成Si薄膜
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
安武潔,大参宏昌,山田髙寛,垣内弘章
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takahiro Sekino;Satoru Takahashi;Kiyoshi Takamasu;安武潔,大参宏昌,山田髙寛,垣内弘章
