中本剛: "紫外線感光性樹脂を使ったマスクパターン転写法とビーム描画法によるマイクロ部品の製作" 高分子論文集. 53・4. 209-217 (1996)
中本剛: "紫外線感光性樹脂を使ったマスクパターン転写法とビーム描画法によるマイクロ部品の製作" 高分子論文集. 53・4. 209-217 (1996)
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Tsuyoshi Nakamoto：“使用紫外线敏感树脂的掩模图案转印法和光束写入法生产微型零件”Polymer Journal 53・4（1996）。
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