K.Nishitani et al.: "Ab Initio Calculation of F Atom Desorption in Tungsten Chemical Vapor Deposition Process Using WF_6 and H_2"Jpn.J.Appl.Phys.. 42. 5751-5752 (2003)
K.Nishitani et al.: "Ab Initio Calculation of F Atom Desorption in Tungsten Chemical Vapor Deposition Process Using WF_6 and H_2"Jpn.J.Appl.Phys.. 42. 5751-5752 (2003)
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K.Nishitani 等：“使用 WF_6 和 H_2 进行钨化学气相沉积过程中 F 原子解吸的从头计算”Jpn.J.Appl.Phys.. 42. 5751-5752 (2003)
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