Present Status and Future Feasibility for Industrial Implementation of Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Technology
Present Status and Future Feasibility for Industrial Implementation of Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Technology
复制标题
Cat-CVD（热线CVD）技术工业化应用的现状和未来可行性
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Matsumura et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yukari Matsuo;Yoshimitsu Fukuyama;Yoshiki Moriwaki;Hiroto TACHIKAWA;H.Matsumura et al.
通过催化 CVD 进行无等离子体 SiN 钝化，降低 pHEMT 的噪音
DOI：
10.1109/gaas.1997.628242
发表时间：
1997
期刊：
GaAs IC Symposium. IEEE Gallium Arsenide Integrated Circuit Symposium. 19th Annual Technical Digest 1997
影响因子：
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作者：
R. Hattori;G. Nakamura;S. Nomura;T. Ichise;A. Masuda;H. Matsumura
通讯作者：
H. Matsumura