Luu N.H., L.Zhao, D.Wang, Y.Sugimoto, K.Ikeda, H.Nakashima: "Optimization of Ar-diluted N_2 electron cyclotron resonance plasma for high-quality SiN film growth at low temperature"Engineering Science Reports, Kyushu University(KYUSHU DAIGAKU SOGORIKOGAKU
Luu N.H., L.Zhao, D.Wang, Y.Sugimoto, K.Ikeda, H.Nakashima: "Optimization of Ar-diluted N_2 electron cyclotron resonance plasma for high-quality SiN film growth at low temperature"Engineering Science Reports, Kyushu University(KYUSHU DAIGAKU SOGORIKOGAKU
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Luu N.H.、L.Zhao、D.Wang、Y.Sugimoto、K.Ikeda、H.Nakashima：“Ar稀释N_2电子回旋共振等离子体在低温下生长高质量SiN薄膜的优化”工程科学报告，九州
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