M.Niwa: "Stantistical properties of atomic-scale Si/SiO_2 inteface roughness studied be STM" Appl.Surf.Sci.60/61. 39-44 (1992)
M.Niwa: "Stantistical properties of atomic-scale Si/SiO_2 inteface roughness studied be STM" Appl.Surf.Sci.60/61. 39-44 (1992)
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M.Niwa：“通过 STM 研究原子级 Si/SiO_2 界面粗糙度的统计特性”Appl.Surf.Sci.60/61。
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