その場イオンビームグラフト重合法における基盤高分子材料へのモノマー導入量の向上
その場イオンビームグラフト重合法における基盤高分子材料へのモノマー導入量の向上
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使用原位离子束接枝聚合提高引入基础聚合物材料中的单体量
DOI:
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发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
藤田 尚希,谷池 晃,古山 雄一
中科院分区:
文献类型:
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作者:
藤田 尚希,谷池 晃,古山 雄一