Surface reaction of hydrogen radical on plasma enhanced chemical vapour deposition of silicon thins films
Surface reaction of hydrogen radical on plasma enhanced chemical vapour deposition of silicon thins films
复制标题
氢自由基对硅薄膜等离子体增强化学气相沉积的表面反应
DOI：
--
复制
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
M. Sekine
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Y. Abe;K. Takeda;M. Hori;K. Ishikawa;H. Kondo;M. Sekine
