硬X線光電子分光法によるSi量子ドット多重集積構造のオペランド分析
硬X線光電子分光法によるSi量子ドット多重集積構造のオペランド分析
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使用硬X射线光电子能谱对硅量子点多重集成结构进行操作分析
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
宮崎誠一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中島裕太;牧原克典;大田晃生;池田弥央;宮崎誠一
