ポジ型レジストのUV光照射による電子ビーム露光感度の向上
ポジ型レジストのUV光照射による電子ビーム露光感度の向上
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通过用紫外线照射正性抗蚀剂来提高电子束曝光灵敏度
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
田村茂雄
中科院分区：
文献类型：
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作者：
佐藤 正学;田村茂雄;田村茂雄
