シリル部位とスルフィド部位を有する新規四座配位子の合成
シリル部位とスルフィド部位を有する新規四座配位子の合成
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具有甲硅烷基和硫醚部分的新型四齿配体的合成
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
渡辺大亮・武田亘弘・海野雅史
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Tsue;K. Ishibashi;S. Tokita;K. Matsui;H. Takahashi;R. Tamura;Masaki Katoh;渡辺大亮・武田亘弘・海野雅史
