Hydrofluoric Acid Etching of Silicon Dioxide Sacrificial Layers I . Experimental Observations
Hydrofluoric Acid Etching of Silicon Dioxide Sacrificial Layers I . Experimental Observations
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二氧化硅牺牲层的氢氟酸蚀刻I．
DOI：
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发表时间：
1994
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
R. Howe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
D. Monk;D. Soane;R. Howe
